韓国の半導体先端技術に関する情報を中国側に流したとして、韓国検察は16日、サムスン電子の子会社で半導体・ディスプレイ製造設備メーカー「セメス」の元研究員（47）ら4人を、産業技術保護法や不正競争防止法違反などの罪で起訴した。被害額は数兆ウォンに上るとみられ、元研究員らは1200億ウォン（約125億円）程度の報酬を受け取ったという。
同社は2021年、世界で初めて「超臨界半導体洗浄装備」を開発した。超臨界（気体と液体の両方の性質を持つ状態）の二酸化炭素は表面張力が小さく、細部まで浸透する。これを使えば、微細パターンを変形させずに半導体を洗浄できる。
検察によると、元研究員はセメスを退職後、この「超臨界半導体洗浄装備」に関する重要な図面を入手し、ブローカーを通して中国に流出させたという。元研究員のほかセメスの協力会社代表らが摘発され、4人が起訴、1人が在宅起訴となった。
半導体技術の流出は、韓国半導体業界の慢性的な問題だ。
大企業でセキュリティシステムが強化されても、取引関係にある企業や、かつての役員らを狙い、「技術諮問」などの名目で巨額を提示して、核心技術を奪取する例が後を絶たない。輸出やM&A（合併・買収）の際、韓国政府の申告・許可が必要な国家重点技術が密かに流出したり、コピーされた技術で製品が開発され、競争国に転売されたりしている。
韓国最高検察庁の産業技術海外流出摘発件数によると、2017年から昨年9月までの5年間で112件、国家重点技術36件が流出、ディスプレイ・半導体部門だけで50件に達する。昨年もサムスン電子DS（半導体）部門の職員が半導体重点技術を流して摘発され、また別の職員はインテルに技術流出を試みて検挙されている。
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